ឧបករណ៍កម្តៅក្រាហ្វិចស្រោប SiC ផ្ទាល់ខ្លួនសម្រាប់ wafers semiconductor

ឧបករណ៍កម្តៅក្រាហ្វិចស្រោបដោយ SiC ផ្ទាល់ខ្លួនសម្រាប់ wafers semiconductor រូបភាពពិសេស

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. គឺជាអ្នកផ្គត់ផ្គង់ឈានមុខគេនៃសេរ៉ាមិច semiconductor កម្រិតខ្ពស់ និងជាក្រុមហ៊ុនផលិតតែមួយគត់នៅក្នុងប្រទេសចិនដែលអាចផ្តល់នូវសេរ៉ាមិចស៊ីលីកុនកាបូនដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ក្នុងពេលដំណាលគ្នា (ជាពិសេសគ្រីស្តាល់ឡើងវិញ SiC) និងថ្នាំកូត CVD SiC ។លើសពីនេះ ក្រុមហ៊ុនរបស់យើងក៏បានប្តេជ្ញាចិត្តចំពោះវិស័យសេរ៉ាមិច ដូចជា អាលុយមីញ៉ូ អាលុយមីញ៉ូមនីត្រាត ហ្សីកូនី និងស៊ីលីកុននីត្រាត ជាដើម។

ផ្ញើអ៊ីមែលមកយើង

ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ស្លាកផលិតផល

លក្ខណៈសំខាន់ៗនៃកំដៅក្រាហ្វិច៖

1. ឯកសណ្ឋាននៃរចនាសម្ព័ន្ធកំដៅ។

2. ចរន្តអគ្គិសនីល្អ និងបន្ទុកអគ្គិសនីខ្ពស់។

3. ធន់ទ្រាំនឹងការ corrosion ។

4. inoxidizability ។

5. ភាពបរិសុទ្ធគីមីខ្ពស់។

6. កម្លាំងមេកានិចខ្ពស់។

អត្ថប្រយោជន៍គឺសន្សំសំចៃថាមពល តម្លៃខ្ពស់ និងការថែទាំទាប។យើងអាចផលិតសារធាតុប្រឆាំងអុកស៊ីតកម្ម និងអាយុកាលវែង ក្រាហ្វីត ក្រាហ្វីត ផ្សិតក្រាហ្វីត និងគ្រប់ផ្នែកទាំងអស់នៃកំដៅក្រាហ្វិត។

ប៉ារ៉ាម៉ែត្រចម្បងនៃកំដៅក្រាហ្វិច

ភាពជាក់លាក់ខាងបច្ចេកទេស	Semicera-M3
ដង់ស៊ីតេភាគច្រើន (g/cm3)	≥1.85
មាតិកាផេះ (PPM)	≤500
ភាពរឹងរបស់ច្រាំង	≥45
ភាពធន់ទ្រាំជាក់លាក់ (μ.Ω.m)	≤12
កម្លាំងបត់បែន (Mpa)	≥40
កម្លាំងបង្ហាប់ (Mpa)	≥70
អតិបរមា។ទំហំគ្រាប់ធញ្ញជាតិ (μm)	≤43
មេគុណនៃការពង្រីកកំដៅ Mm/°C	≤4.4*10-6