ចិញ្ចៀន CVD SiC ភាគច្រើន

រូបភាពដែលមានលក្ខណៈពិសេស CVD SiC Ring ភាគច្រើន

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

ចិញ្ចៀន CVD SiC ភាគច្រើនប្រើឧស្ម័នប្រភពស៊ីលីកុន (ដូចជាស៊ីលីកុនអ៊ីដ្រាត) និងឧស្ម័នប្រភពកាបូន (ដូចជាមេតាន) ជាវត្ថុធាតុដើម ធ្វើប្រតិកម្មនៅសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ដើម្បីដាក់វត្ថុធាតុ SiC ដែលមានទំហំធំនៅលើស្រទាប់ខាងក្រោម ឬផ្សិត។ ដំណើរការនេះអនុញ្ញាតឱ្យ SiC ត្រូវបានដាក់ស្មើៗគ្នាលើផ្ទៃធំ បង្កើតបានជារចនាសម្ព័ន្ធចិញ្ចៀនរឹងមាំ និងជាប់លាប់។

ផ្ញើអ៊ីមែលមកយើង

ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ស្លាកផលិតផល

ហេតុអ្វីបានជា Silicon Carbide Etching Ring?

RTPចិញ្ចៀន CVD SiCត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយក្នុងវិស័យឧស្សាហកម្ម និងវិទ្យាសាស្ត្រនៅក្នុងបរិយាកាសដែលមានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ និងមានសារធាតុច្រេះ។ វាដើរតួនាទីយ៉ាងសំខាន់ក្នុងការផលិត semiconductor, optoelectronics, ម៉ាស៊ីនភាពជាក់លាក់ និងឧស្សាហកម្មគីមី។ កម្មវិធីជាក់លាក់រួមមាន:

1. ការផលិតឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិក៖ចិញ្ចៀន RTP CVD SiCអាចត្រូវបានប្រើសម្រាប់កំដៅនិងត្រជាក់នៃឧបករណ៍ semiconductor ផ្តល់នូវការត្រួតពិនិត្យសីតុណ្ហភាពមានស្ថេរភាពនិងធានានូវភាពត្រឹមត្រូវនិងភាពជាប់លាប់នៃដំណើរការ។

2. Optoelectronics: ដោយសារតែភាពធន់នឹងកំដៅដ៏ល្អឥតខ្ចោះរបស់វា និងធន់នឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ RTPចិញ្ចៀន CVD SiCអាចត្រូវបានប្រើជាជំនួយ និងសម្ភារៈរំសាយកំដៅសម្រាប់ឡាស៊ែរ ឧបករណ៍ទំនាក់ទំនងខ្សែកាបអុបទិក និងសមាសធាតុអុបទិក។

3. គ្រឿងម៉ាស៊ីនដែលមានភាពជាក់លាក់៖ ចិញ្ចៀន RTP CVD SiC អាចត្រូវបានប្រើសម្រាប់ឧបករណ៍ និងឧបករណ៍ដែលមានភាពជាក់លាក់នៅក្នុងបរិយាកាសដែលមានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ និងច្រេះ ដូចជាចង្រ្កានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ ឧបករណ៍បូមធូលី និងរ៉េអាក់ទ័រគីមី។

4. ឧស្សាហកម្មគីមី៖ ដោយសារភាពធន់នឹងការច្រេះ និងស្ថិរភាពគីមី ចិញ្ចៀន RTP CVD SiC អាចត្រូវបានប្រើនៅក្នុងធុង បំពង់ និងរ៉េអាក់ទ័រក្នុងប្រតិកម្មគីមី និងដំណើរការកាតាលីករ។

ប្រព័ន្ធអេភី

ប្រព័ន្ធ RTP

ប្រព័ន្ធ CVD

ដំណើរការផលិតផល៖

1. ជួបដំណើរការខាងក្រោម 28nm

2. ភាពធន់នឹងការ corrosion ទំនើប

3. ដំណើរការស្អាតអស្ចារ្យ

4. ភាពរឹងដ៏អស្ចារ្យ

5. ដង់ស៊ីតេខ្ពស់។

6. ធន់ទ្រាំនឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។

7. ធន់នឹងការពាក់

កម្មវិធីផលិតផល៖

សមា្ភារៈ Silicon carbide មានលក្ខណៈនៃភាពរឹងខ្ពស់ ធន់នឹងការពាក់ ធន់នឹងច្រេះ និងស្ថេរភាពសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។ ផលិតផលដែលមានដំណើរការល្អឥតខ្ចោះ ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងដំណើរការ etching ស្ងួត និង TF/Diffusion ។